半導體超純水的作用：保障半導體制造質量的重要環節

一、半導體超純水的作用

半導體超純水指的是經過多級過濾、反滲透、電離交換等處理工藝得到的高純度水。在半導體制造過程中，半導體超純水的作用主要體現在以下幾個方面：

1. 清洗：半導體超純水能夠有效清洗半導體產品表面的雜質和污染物，保證半導體產品的品質。

2. 冷卻：半導體超純水作為冷卻介質，能夠有效降低半導體產品的溫度，減少熱應力，提高半導體產品的穩定性。

3. 溶解：半導體超純水能夠溶解半導體生產過程中用到的各種化學試劑，保證化學反應的純度和穩定性。

4. 傳輸：半導體超純水能夠傳輸半導體產品生產過程中需要的各類物質，如金屬離子、有機物等

二、半導體超純水在半導體制造領域中的重要性

半導體超純水是半導體制造的重要環節之一，它直接關系到半導體產品的質量和穩定性。在半導體制造過程中，如果使用的水源不夠純凈，就會導致半導體產品表面的雜質和污染物過多，從而影響半導體產品的品質和穩定性。此外，半導體超純水還能夠有效延長半導體產品的使用壽命，提高半導體產品的可靠性。

總之，半導體超純水在半導體制造中起著至關重要的作用，它不僅能夠保障半導體制造過程中的質量，還能夠有效延長半導體產品的使用壽命。因此，半導體制造企業應該高度重視半導體超純水的質量和使用，確保半導體產品的質量和穩定性。

清洗工序約占半導體制造工序的30%，采用“超純水"（UPW），最大限度地去除雜質。

超純水是通過最大限度地去除天然水中的雜質而得到凈化的水。自來水中含有溶解的各種物質，包括鈣、鎂等礦物質以及氯等消毒劑。這些雜質會嚴重損害半導體制造等精密工藝中的產品質量。

因此，在半導體制造等要求高純度的領域， 去除有機物、微粒、溶解氣體等，使離子更接近氫離子（H+）和氫氧根離子（OH-）。被使用。

半導體制造涉及一系列復雜的工藝，需要極其先進的技術。超純水是該制造過程的重要組成部分。

在半導體制造中，復雜的電路圖案形成在稱為硅晶片的薄板上。在此過程中，會進行各種處理，例如切割晶圓和注入雜質。在這些處理之后，幾乎總是有一個清潔步驟。

該清洗過程使用超純水。超純水是最大限度去除雜質的極其純凈的水。超純水之所以如此重要，是因為半導體電路極其微小，即使是最輕微的雜質也會對產品性能產生重大影響。

因此PFA取樣瓶在半導體領域被廣泛應用

PFA試劑瓶也叫特氟龍試劑瓶、取樣瓶、樣品瓶，它耐受強酸堿及高低溫，主要用于痕量分析、同位素檢測，半導體、ICP-MS/OES/AAS分析實驗。

常用規格：30ml 60ml 100ml 250ml 500ml 1000ml 2000ml 3000ml 4000ml 5000ml等

PFA試劑瓶有廣口和小口之分，廣口適合盛放固體樣品，小口適合盛放液體樣品，不易揮發。

產品特性

1、外觀半透明；

2、耐高底溫：使用溫度-200～+260℃；

3、耐腐蝕：耐強酸、強堿、王水、氫氟酸和各種有機溶劑；

4、防污染：金屬元素雜質含量低于0.01ppb，滿足ICP超高實驗要求；

5、瓶口和瓶蓋密封性好，無需瓶塞，液體不滲漏；可長期密封存儲高純試劑及標準樣品；

廣泛應用于半導體、新材料、多晶硅、太陽能光伏、電子材料、重金屬檢測等行業

可配套安捷倫、島津、PE、賽默飛等品牌儀器使用